半导体晶圆级湿制程电镀装备及半导体湿法装备与化学药液一体化工艺服务平台
产品介绍
菜单
供液系统 / Chemical Supply
Central Supply
 
 适用于
  • 用于酸碱类，有机类常用液态化学品；
  • 厂务端供液，集中管理
 
 适用于
  • 用于酸碱类，有机类常用液态化学品；
  • 厂务端供液，集中管理
Local Supply
 
 适用于
  • 用于酸碱类，有机类常用液态化学品；
  • 就近供液，不需要厂务端进行管理；
  • Fab升级改造的加装
 
 适用于
  • 用于酸碱类，有机类常用液态化学品；
  • 就近供液，不需要厂务端进行管理；
  • Fab升级改造的加装
 
LCSS设备
 
 适用于
  • 特殊液态化学品；
  • 氮气压送；
  • 不得接触空气；
  • 配套LPCVD和扩散炉。
 
 适用于
  • 特殊液态化学品；
  • 氮气压送；
  • 不得接触空气；
  • 配套LPCVD和扩散炉。
SDS设备
 
 适用于
  • 用于Slurry化学品；
  • 目前交付的设备以Local的为主；
  • CMP配套机台；
  • Slurry药液验证配套机台。
 
 适用于
  • 用于Slurry化学品；
  • 目前交付的设备以Local的为主；
  • CMP配套机台；
  • Slurry药液验证配套机台。
供液系统 / 典型系统流程图